In die eigene Halbleiterfertigung will Intel
mit Milliarden-Investitionen in neue Fertigungsstätten, Entwicklungszentren
und Packaging-Standorte ausbauen. In den kommenden Jahren sollen
zur Belichtung von Silizium-Wafern fünf neue Fabs entstehen,
darunter zwei in Europa mit Deutschland als möglichem
Standort.
Im US-Staat Arizona soll für 20 Milliarden US-Dollar mit dem
Bau zweier Fertigungsstätten begonnen werden. Intel bestätigt
dies bereits im Rahmen der Firmenstrategie "Integrated
Device Manufacturing (IDM) 2.0". Darüber hinaus traf
sich in den vergangenen Tagen Intel CEO Pat Gelsinger mit Politiker
der EU und aus Deutschland, darunter Wirtschaftsminister Peter Altmaier
und den bayerischen Ministerpräsidenten Markus Söder,
sowie Firmenchefs, unter anderem von BMW und angeblich VW.
Wegen seiner zentralen Lage in Europa käme Deutschland als
Standort infrage; eine finale Entscheidung steht aber noch aus.
Die einzige europäische Produktionsstätte betreibt Intel
im irischen Leixlip,
diese kann 14-Nanometer-Strukturen fertigen und wird derzeit für
modernere Prozesse stark ausgebaut wird.
(hv, hannover)
(siehe auch: Heise-News-Ticker)
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